浙江征求意見：晶圓制造領(lǐng)域加速突破3-7nm制程 發(fā)展離子注入機、涂膠顯影、先進制程光刻機、刻蝕機等
2026-01-12 14:22
來源: 云財經(jīng)
影響力評估指數(shù)：21.94
云財經(jīng)訊，浙江省經(jīng)信廳牽頭編制了《浙江省“十五五”新型工業(yè)化規(guī)劃(征求意見稿)》，現(xiàn)就文稿內(nèi)容及公平競爭性向社會公開征求意見。征求意見指出，芯片設(shè)計與制造領(lǐng)域，突破低功耗芯片設(shè)計，發(fā)展高端通用芯片、專用芯片、智能芯片等，開發(fā)第五代精簡指令集架構(gòu)芯片。晶圓制造領(lǐng)域，加速突破3-7nm制程。關(guān)鍵材料領(lǐng)域，發(fā)展化合物半導體材料、電子氣體、高純靶材、光刻膠等。關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域，發(fā)展離子注入機、涂膠顯影、先進制程光刻機、刻蝕機等。封裝測試領(lǐng)域，加快突破芯粒封裝、三維異構(gòu)集成封裝、異質(zhì)封裝、脈沖序列測試等技術(shù)。新一代半導體領(lǐng)域，發(fā)展氧化鎵、金剛石、碳化硅、氮化鎵等。
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