西電團(tuán)隊攻克芯片散熱世界難題:氮化鎵射頻芯片性能提升30%到40%
2026-01-17 21:58   
來源: 云財經(jīng)   
影響力評估指數(shù):17.82  
云財經(jīng)訊,據(jù)西安電子科技大學(xué)官方,近日,郝躍院士張進(jìn)成教授團(tuán)隊的最新研究在這一核心難題上實(shí)現(xiàn)了歷史性跨越——他們通過將材料間的“島狀”連接轉(zhuǎn)化為原子級平整的“薄膜”,使芯片的散熱效率與綜合性能獲得了飛躍性提升。這個問題自2014年相關(guān)成核技術(shù)獲得諾貝爾獎以來,一直未能徹底解決,成為制約射頻芯片功率提升的最大瓶頸。工藝的突破直接轉(zhuǎn)化為器件性能的驚人提升?;谶@項創(chuàng)新的氮化鋁薄膜技術(shù),研究團(tuán)隊制備出的氮化鎵微波功率器件,在X波段和Ka波段分別實(shí)現(xiàn)了42 W/mm和20 W/mm的輸出功率密度。這一數(shù)據(jù)將國際同類器件的性能紀(jì)錄提升了30%到40%,是近二十年來該領(lǐng)域最大的一次突破。這意味著,在芯片面積不變的情況下,裝備探測距離可以顯著增加;對于通信基站而言,則能實(shí)現(xiàn)更遠(yuǎn)的信號覆蓋和更低的能耗。更深遠(yuǎn)的影響在于,它為推動5G/6G通信、衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)等未來產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,儲備了關(guān)鍵的核心器件能力。
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