云財(cái)經(jīng)訊，大模型吞噬應(yīng)用的輿論引發(fā)市場擔(dān)憂，AI應(yīng)用板塊集體受挫。日前，在公司年會上，美圖公司CEO吳欣鴻談及模型與應(yīng)用之爭。他透露，即便在Nano Banana發(fā)布后，美圖的應(yīng)用數(shù)據(jù)依然在快速增長，通用大模型和應(yīng)用之間有協(xié)同效應(yīng)。 吳欣鴻坦言，通用大模型“無所不能”，留給應(yīng)用層的空間已所剩無幾，但與此同時，通用大模型在特定垂直場景下的效率并沒有很高。他把大模型比喻為“瑞士軍刀”，能勝任通用需求和日常任務(wù)，而垂直應(yīng)用就好比剪刀、美工刀、水果刀、指甲剪等專業(yè)工具，滿足不同場景下的特定需求。 在吳欣鴻看來，應(yīng)用開發(fā)者在每個時代階段都有空間，關(guān)鍵在于對高價值垂直場景的深度挖掘。這類場景普遍存在非常剛性的需求和成本高、效率低的問題，客戶愿意為此付費(fèi)，服務(wù)后也能創(chuàng)造出高彈性的增長空間。而應(yīng)用與大模型的競爭壁壘，關(guān)鍵在于能否拿到“這個垂直場景我最專業(yè)”的心智，解決最后一公里與長尾需求。(新浪科技)